T/CNIA 0141-2022
多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Determination of metal impurity content in hydrogen for polysilicon production by inductively coupled plasma mass spectrometry


 

 

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标准号
T/CNIA 0141-2022
发布
2022年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CNIA 0141-2022
 
 
本文件规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定多晶硅生产用氢气中钠、镁、铝、钙、铬、锰、铁、镍、铜、锌、砷、钛元素含量的方法。

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