T/CNIA 0141-2022
多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法

Determination of metal impurity content in hydrogen for polysilicon production by inductively coupled plasma mass spectrometry

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标准号: T/CNIA 0141-2022
发布: 2022年
发布单位: 中国团体标准
当前最新: T/CNIA 0141-2022

适用范围: 本文件规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定多晶硅生产用氢气中钠、镁、铝、钙、铬、锰、铁、镍、铜、锌、砷、钛元素含量的方法。

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