在横截面中进行切割(也称为斜面切割)时,如这里所示,碳化钨掩模位于离子束和样品之间,用于定义横截面的位置,并保护样品的前表面。如果操作得当,无论样品材料的性质或成分如何,斜面切割过程都会产生原始横截面。电子显微镜分析用锂电池的分步制备在本应用注意事项中,机械制备和宽离子束研磨相结合,用于制备电池系统的两个组件——锂镍锰钴氧化物/铝(Li-NMC/Al)电极和铅(Pb)板栅。...
从芯片的背面利用OBIRCH(Optical Beam Induced Resistance Change, 激光束电阻异常侦测)确定了热点位置之后,再用双束电镜结合EDX能谱,观察热点位置的横截面微观形貌并进行成分分析,结果如图3所示。图3 a 是热点的中心位置附近的截面SEM图像,此时观察到了大面积的异常(红色框)。对异常处进行高倍SEM形貌观察和EDX能谱分析,结果见图3 b) 和c)。...
在精抛光的过程中需要打开软件的iSPI功能,将离子束加工的模式设置为间隔特定时间的自动暂停,同时在SEM窗口采集横截面的图像,实时监控截面加工的进展。当加工到热点区域的中心位置附近时开始出现异常点,此时暂停横截面加工并用SEM拍照,得到的横截面的低倍全貌图和异常点的高倍图像,如图2 a)和b) 所示。...
图2:EM TIC 3X的三离子束系统图3:离子源工作原理通过离子束刻蚀制备横截面样品制备扫描电子显微镜(SEM)的样品横截面时,使用一个边缘锋利的挡板遮盖样品,将50–100 µm样品材料暴露在挡板之上。三组离子束在挡板边缘的中心位置相交,轰击露出的部分并将其去除,以此制备一个高质量的样品横截面。该设备离子枪的研磨速度可达每小时300 μm(Si 10 kV, 3.5 mA, 100 μm)。...
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