ASTM F1709-97(2016)
电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
ASTM F1709-97(2016) 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- ASTM F1709-97(2016)
- 发布
- 2016年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM F1709-97(2016)
- 引用标准
- ASTM E112
- 1.1 本规范涵盖用作制造半导体电子器件的原材料的纯钛溅射靶材。 1.2 本标准规定了纯度等级、物理属性、分析方法和包装。 1.2.1 牌号是金属杂质总含量的衡量标准。牌号名称不一定表明适合特定应用，因为总金属杂质以外的因素可能会影响性能。
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