ASTM F1709-97(2016)
电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
ASTM F1709-97(2016) 发布历史
ASTM F1709-97(2016)由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2016-05-01。
ASTM F1709-97(2016)在国际标准分类中归属于: 31.120 电子显示器件。
ASTM F1709-97(2016) 电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范的最新版本是哪一版？
最新版本是 ASTM F1709-97(2016) 。
ASTM F1709-97(2016) 发布之时，引用了标准
- ASTM E112 测定平均粒度的标准试验方法
ASTM F1709-97(2016)的历代版本如下：
- 2016年 ASTM F1709-97(2016) 电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范
- 1997年 ASTM F1709-97(2008) 电子薄膜用高纯度钛溅射靶机的标准规范
- 1997年 ASTM F1709-97(2002) 电子薄膜用高纯度钛溅射靶机的标准规范
- 1996年 ASTM F1709-97 电子薄膜用高纯钛溅射靶的标准规范
1.1 本规范涵盖用作制造半导体电子器件的原材料的纯钛溅射靶材。
1.2 本标准规定了纯度等级、物理属性、分析方法和包装。
1.2.1 牌号是金属杂质总含量的衡量标准。牌号名称不一定表明适合特定应用，因为总金属杂质以外的因素可能会影响性能。
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