ISO 10110-9-1996
光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第9部分:表面处理和镀层
Optics and optical instruments - Preparation of drawings for optical elements and systems - Part 9: Surface treatment and coating
ISO 10110-9-1996 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- ISO 10110-9-1996
- 发布日期
- 1996年03月
- 实施日期
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- N30
- 国际标准分类号
- 01.100.20;37.020
- 发布单位
- IX-ISO
- 代替标准
- ISO 10110-9-2016
- 被代替标准
- ISO/DIS 10110-9-1992
- 适用范围
- Specifies the presentation of design and functional requirements for optical elements and systems in technical drawings used for manufacturing and inspection. Gives rules for indicating the treatments and coatings applied to optical surfaces for functional and/or protective purposes.
ISO 10110-9-1996系列标准
ISO 10110-1-2019 光学和光子学 - 光学元件和系统图纸准备第1部分:总则
ISO 10110-10-2004 光学和光学仪器.光学元件和系统制图准备.第10部分:光学元件和粘结组件的数据表
ISO 10110-11 Technical Corrigendum 1-2006 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据.技术勘误1
ISO 10110-11-2016 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据
ISO 10110-12 AMD 1-2013 光学和光子学. 光学元件和系统用图纸的编制. 第12部分: 非球面; 修改件1
ISO 10110-12-2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第12部分:非球面
ISO 10110-12-2007/Amd 1-2013 光学和光子学.光学元件和系统图纸的制备.第12部分:非球面.修改件1
ISO 10110-13-1997 光学和光学仪器.光学元件和系统图形的制备.第13部分:激光辐射损坏阈
ISO 10110-14-2018 光学和光子学. 光学元件和系统的制图准备. 第14部分: 波阵面变形公差
ISO 10110-17-2004 光学和光学仪器.光学元件和系统制图准备.第17部分:激光辐射损害阈
ISO 10110-18-2018 ISO 10110-18-2018
ISO 10110-19-2015 ISO 10110-19-2015
ISO 10110-2-1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第2部分:材料不完全性 应力双折射
ISO 10110-3-1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第3部分:材料不完全性 气泡和杂质
ISO 10110-4-1997 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第4部分:材料不完整性 不均匀性和划痕
ISO 10110-5 CORR 1-1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第5部分:表面形状公差 技术勘误表1
ISO 10110-5-2015 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第5部分:表面形状公差
ISO 10110-6 Technical Corrigendum 1-1999 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第6部分:中心公差 技术勘误表1
ISO 10110-6-2015 光学和光子学.光学元件和系统制图准备 第6部分:中心公差
ISO 10110-7-2017 ISO 10110-7-2017
ISO 10110-8-2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第8部分:表面结构