ASTM F1710-97(2002)
使用高分辨率发光质谱仪测试电子级钛中痕量金属杂质的标准试验方法

Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Titanium by High Mass-Resolution Glow Discharge Mass Spectrometer

被代替

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标准号

ASTM F1710-97(2002)

发布

1997年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM F1710-08

当前最新

ASTM F1710-08(2016)

 

 

适用范围

该测试方法适用于半导体行业，用于评估薄膜金属化工艺中使用的材料（例如溅射靶材、蒸发源）的纯度。根据有关各方商定，该测试方法可能在负责技术委员会未设想的其他应用中有用。该测试方法旨在供各个实验室的 GDMS 分析人员使用，以统一测定纯钛中痕量杂质的方案和参数。目的是提高实验室间分析数据的一致性。该测试方法还针对 GDMS 分析的用户，以帮助他们了解测定方法以及报告的 GDMS 数据的重要性和可靠性。对于大多数金属物质，常规分析的检测限约为 0.01 重量 ppm。通过特殊的预防措施，检测限制可以达到亚 ppb 水平。本试验方法可供电子级钛材料生产者和使用单位参考。
1.1 本试验方法适用于高纯钛中微量金属杂质浓度的测定。
1.2 本试验方法适用于扇形磁辉放电质谱仪（GDMS）分析。
1.3 钛基体的金属杂质纯度必须达到 99.9 重量％（3N 级）或更纯。主要合金成分（例如铝或铁）的浓度不得大于 1000 重量 ppm。
1.4 本测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的操作员熟练使用的先进计算机控制实验室设备才能达到所需的灵敏度。该测试方法确实涵盖了负责技术委员会已知的影响高纯度钛分析可靠性的特定因素（例如，样品制备、相对灵敏度系数的设置、灵敏度限值的确定等）。
1.5 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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