SJ 20984-2008
化学气相淀积(CVD)设备通用规范
General specification for chemical vapor deposition (CVD) equipment
- 标准号
- SJ 20984-2008
- 发布
- 2008年
- 发布单位
- 行业标准-电子
- 当前最新
- SJ 20984-2008
- 引用标准
- GB 5226.1-2002 GB/T 13384-1992 GB/T 17626.1-1998 GB/T 191 GB/T 5080.7-1986 GB/T 6388 SJ 1276-1977 SJ/T 10674-1995 SJ/T 37-1996
- 适用范围
- 本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。 本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备，其它行业的类似设备也可参照执行。
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