ISO 14701:2011
表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量

Surface chemical analysis - X-ray photoelectron spectroscopy - Measurement of silicon oxide thickness


ISO 14701:2011 中,可能用到以下耗材

 

A837045-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, C plane

A837045-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, C plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837044-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two Sides, A Plane

A837044-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two Sides, A Plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837047-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, M plane

A837047-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, M plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837041-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, M plane

A837041-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, M plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837042-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, R plane

A837042-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, R plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837040-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, C plane

A837040-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, C plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837038-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, A plane

A837038-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished one side, A plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

A837048-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, R plane

A837048-1EA 氧化铝基片,10x10x0.5mm, polished Two side, R plane

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

P816827-1mg PHI-27 from rat,≥95% (HPLC)

P816827-1mg PHI-27 from rat,≥95% (HPLC)

上海麦克林生化科技股份有限公司

 

MappIRAutomatedSemiconductorWaferAccessoryfor8英寸Wafers

MappIRAutomatedSemiconductorWaferAccessoryfor8英寸Wafers

北京博德恒悦科贸有限公司

 

美呃锇彩-Tube,uncoated,withrings

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顺通世嘉国际贸易(北京)有限公司

 

ISO 14701:2011

标准号
ISO 14701:2011
发布
2011年
发布单位
国际标准化组织
替代标准
ISO 14701:2018
当前最新
ISO 14701:2018
 
 

ISO 14701:2011相似标准


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