BS ISO 17109-2015
表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法

Surface chemical analysis. Depth profiling. Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

BS ISO 17109-2015 发布历史

BS ISO 17109-2015由英国标准学会 GB-BSI 发布于 2015-08-31，并于 2015-08-31 实施。

BS ISO 17109-2015在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析。

BS ISO 17109-2015 发布之时，引用了标准

• ISO 14606 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法*， 2015-12-01 更新
• ISO 18115 表面化学分析.词汇.第3部分:光学界面分析中使用的术语*， 2022-06-30 更新
• ISO/TR 15969 表面化学分析 - 深度分析 - 溅射深度的测量*， 2021-03-17 更新

* 在 BS ISO 17109-2015 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。

BS ISO 17109-2015的历代版本如下：

• 2015年08月31日 BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法

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标准号

BS ISO 17109-2015

发布日期

2015年08月31日

实施日期

2015年08月31日

废止日期

无

国际标准分类号

71.040.40

发布单位

GB-BSI

引用标准

ISO 14606 ISO 18115 ISO/TR 15969