ISO 14606:2000
表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法

Surface chemical analysis - Sputter depth profiling - Optimization using layered systems as reference materials


 

 

非常抱歉，我们暂时无法提供预览，您可以试试： 免费下载 ISO 14606:2000 前三页，或者稍后再访问。

您也可以尝试购买此标准，
点击右侧 “立即购买” 按钮开始采购（由第三方提供）。

 

标准号
ISO 14606:2000
发布
2000年
中文版
GB/T 20175-2006 (等同采用的中文版本)
发布单位
国际标准化组织
替代标准
ISO 14606:2015
当前最新
ISO 14606:2022
 
 
适用范围
本国际标准为使用适当的单层和多层参考材料优化溅射深度分析参数提供了指导，以便根据俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质量中的仪器设置实现最佳深度分辨率光谱测定法。 本国际标准无意涵盖特殊多层系统的使用，例如δ掺杂层。

ISO 14606:2000相似标准

GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 GB/T 20175-2006 表面化学分析.溅射深度剖析.用层状膜系为参考物质的优化方法 AS ISO 14606:2006 表面化学分析．溅射深度剖析．用层状膜系为参考物质的优化方法 NF X21-062*NF ISO 14606:2008 表面化学分析 溅射深度剖析 层状膜系作为参考物质的优化方法 GB/T 29557-2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量

推荐

X射线光电子能谱技术（XPS）的历史、原理及应用

4、元素沿深度方向的分布分析Ar 离子剥离深度分析方法是一种使用最广泛的深度剖析方法。它是先把表面一定厚度的元素溅射掉,然后用XPS 分析剥离后的表面元素含量,从而获得元素沿样品深度方向的分布。这是一种破坏性分析方法,会引起样品表面晶格损伤,择优溅射和表面原子混合等现象。但其优点是可以分析表面层较厚的体系,深度分析速度快。...

谁引用了ISO 14606:2000 更多引用

GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 ASTM E2735-14(2020) 用于选择X射线光电子能谱所需校准的标准指南 BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法 ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法 ASTM E2735-14 选择X射线光电子光谱40;XPS41试验所需校准的标准指南


Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证：京ICP证110310号