先进材料实验室分类
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。我们的设备和......
我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。......
产品概述气体泄漏检测的延迟会对工厂财产、环境和人员生命构成巨大威胁。谱育科技研发制造的特气检测仪采用先进的智能传感器技术能侦测到40多种气体，包括硅烷、磷烷、氨气、三氟化氮和其他半导体特气。 使用谱育......
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀In......
PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻（DSiE）领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展......
Ionfab 300 IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现， 因而提高系统的利用率......
点击查看下载原子层刻蚀牛津仪器PlasmaPro 100 ALE 应用于电子/半导体相关资料，进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀 我们的设备和工艺已通过充分验证，正......
点击查看下载半导体检测仪牛津仪器PlasmaPro 100 ALE 样本相关资料，进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数......
