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- KRI RFICP325 离子源已成功应用在塑料光学镜头应用 发布时间：2020-12-18 15:58
- 国内知名光学镜头制造商使用 KRI 射频离子源 RFICP325 成功镀膜于塑料基板并且通过 1,500 小时高温高湿严苛环境测试 （80C/80%湿度、85C/95%湿度）. 多数的光学镜头制造公司极力转型于塑料基材的...... [全文]
- hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板 发布时间：2020-12-16 17:28
- 华中某实验室采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE制作面阵石英 DNA芯片模板. Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:基板尺寸< Ф8 X 1wfr样品台直接冷却（水冷）0-90 度旋...... [全文]
- hakuto 离子刻蚀机 20IBE 刻蚀滤波器钽酸锂晶片 发布时间：2020-12-14 15:44
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- hakuto 离子刻蚀机 10IBE 用于多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究 发布时间：2020-12-11 16:10
- hakuto 离子刻蚀机 10IBE 用于多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究南京某材料科学学院结合 SiO2 纳米球掩膜与立柱刻蚀技术制备了结构呈周期性排列的多晶黑硅, 利用 hakuto 离子刻蚀机 10IBE 去除由荷能离子撞击所...... [全文]
- hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于芯片制造中厚铝刻蚀 发布时间：2020-12-10 16:09
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- Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 运用于铁电薄膜研究 发布时间：2020-12-09 14:55
- 某研究所在 PZT 铁电薄膜的电学性能研究中运用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE. Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:基板尺寸< Ф8 X 1wfr样品台直接冷却（水冷）0-90&...... [全文]
- Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体 发布时间：2020-12-08 16:22
- 某厂商研发部门采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体进行抛光加工, 用以消除单点金刚石车削（SPDT）后 KDP 晶体表面留下的周期性小尺度波纹. Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C&n...... [全文]
- Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板 发布时间：2020-12-07 16:17
- Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板某印制板线路板生产工厂采用伯东 Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100 将覆铜板上不需要的铜蚀刻掉, 将需要保留的铜保留下来. Hakuto 全自动离子刻蚀机 M...... [全文]
- Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工 发布时间：2020-12-04 16:20
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