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伯东企业（上海）有限公司
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | RPICP 140 |
| 品牌： | 考夫曼 | 产地： | 美国 |
| 关注度： | 18 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 供应商性质 | 一般经销商 | 产地类别 | 进口 |
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KRI Ion Source RFICP 140, Gridded RF Ion Source
KRI Ion Source RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源，非常适合于离子束溅射沉积、离子辅助沉积和离子束刻蚀。在离子束溅射工艺中，离子源配有离子光学元件，可以很好的控制离子束去溅射靶材，实现完美的薄膜特性。同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中，最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务。就标准的型号而言，可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度。
KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 140产品详细参数
Model | RFICP 140 |
Discharge | RF inductive |
Filamentless | Yes |
RF power | >0.5 kW |
Ion optics | OptiBeamTM |
Grids | Application specific |
Alignment | Self-aligned |
Neutralizer | Yes (options) |
Power controller | RFICP ion Power Pack |
Options | |
Beam Shape | Collimated, convergent, divergent |
Water cooled | Yes |
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
