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| 参考报价： | 面议 | 型号： | RPICP 200 |
| 品牌： | 考夫曼 | 产地： | 美国 |
| 关注度： | 6 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 供应商性质 | 一般经销商 | 产地类别 | 进口 |
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KRI Ion Source RFICP 200, Gridded RF Ion Source
KRI Ion Source RFICP 200 是一款大型的有栅极离子源，离子能量范围 100~1000 eV，非常适合于典型的离子束辅助沉积和离子束刻蚀。特有的大面积束源和高密度使它能够满足一些极端的工艺并获得高的均匀性。因此 RFICP 200 被广泛应用在大型离子辅助的盒式镀膜机和较大尺寸 wafer的离子刻蚀系统。
KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 200 产品参数
Model | RFICP 200 |
Discharge | RF inductive |
Filamentless | Yes |
RF power | >0.5 kW |
Ion optics | OptiBeamTM |
Grids | Application specific |
Alignment | Self-aligned |
Neutralizer | Yes (options) |
Power controller | RFICP ion Power Pack |
Options | |
Beam Shape | Collimated, convergent, divergent |
Water cooled | Yes |
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
