Exploiter原子层沉积系统是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统，适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。

1、产品特色

（1）传输管路的优化设计，有效地避免管路堵塞及交叉污染问题

（2）工业化级别标准集成：PLC+工控机+触摸屏

（3）软件操作界面友好，可真正实现“一键沉积”

（4）完善全面的安全互锁方案

（5）实时监测镀膜工艺

2、可制备的材料种类

（1）氧化物：Al₂O₃、TiO₂、SiO₂、HfO₂、Ta₂O₅、ZrO₂、ZnO、SnO₂、La₂O₃、Lu₂O₃等

（2）金属材料及合金：Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

（3）二元/多元材料：AlN、HfON、LaAlO₃、MnN、WN等

（4）纳米层压材料：(Al₂O₃/ZrO₂)_n等

3、技术指标

（1）本底真空：＜5.0×10^-3torr，高性能机械泵（可定制其它款型）

（2）样品腔室：Φ200mm基片反应腔（可定制其它款型）

（3）9路进气口：6路前驱体源 + 3路反应气源

（4）沉积温度：室温-500℃（可定制其他温度）

（5）前驱体管道温度：室温-120℃（可定制其他温度）

（6）源瓶加热温度：室温-120℃（可定制其他温度）

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途