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SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统

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参考报价: 面议 型号: E200P 双反应腔+6路进气口
品牌: 原速科技 产地: 广东
关注度: 2 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
供应商性质生产商产地类别国产
价格范围100万-200万
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Exploiter  E200P原子层沉积系统(粉末颗粒包裹反应腔)是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统,可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽比结构及其他复杂三维结构上沉积薄膜。


原子层沉积系统 E200P广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域,其特点在于:

双反应腔:Φ200mm + 粉末颗粒包裹腔

6路进气口:3路前驱体源 + 3路反应气源


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