SUPERALD Exploiter原子层沉积设备

Exploiter原子层沉积系统是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统，广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域。

系统优势

     1.传输管路的优化设计，有效地避免管路堵塞及交叉污染问题

     2.工业化级别标准集成：PLC+工控机+触摸屏

     3.软件操作界面友好，可真正实现“一键沉积”

     4.全方位可靠的安全互锁方案

     5.实时监测镀膜工艺

技术指标

    1.本底真空：＜5.0×10-3torr，高性能机械泵（可定制）

   2.样品腔室：φ200mm；

   3.前驱体源：2、4或6路

   4.氧化/还原反应物：3路

   5.沉积温度：室温-500℃（可定制）

  6.前驱体管道温度：室温-120℃（可定制）

  7.源瓶加热温度：室温-120℃（可定制）

应用领域

    1 微电子：逻辑器件、碳纳米管、存储器件/材料、阻挡层

    2 光学：光子晶体、表面等离激元、光学微腔、导电氧化物、其他光学器件

    3 能源：锂电池、燃料电池、太阳能电池、超级电容器、表面钝化和敏化

    4 催化：氧化物催化剂、负载型金属催化剂、颗粒和高深宽比结构

    5 生物：生物薄膜和仿生、生物相容性涂层、生物检测电子器件、生物传感器

    6 纳米技术：微纳机电系统、纳流体器件、磁隧道结器件、单分子传感器

材料种类

    1 氧化物：Al₂O₃、TiO₂、SiO₂、HfO₂、Ta₂O₅、ZrO₂、ZnO、SnO₂、La₂O₃、Lu₂O₃等

    2 金属材料及合金：Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

    3 二元/多元材料：AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等

    4 纳米层压材料：(Al₂O₃/ZrO₂)n等

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途