连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备设计, 片电阻不受针尖距离影响多种型号以供选择: 
自动上下片(Cassette to cassette, C2C) 
室温至100°C 的测量(更高可选)
可添加并整合于多腔式的集束型架构设备(cluster tool) 

亦可在连续式设备内加入四探针片电阻及光学膜厚测量, 适合薄膜太阳能(铜铟镓硒, CIGS)及平板显示行业

基材尺寸: 
450mm晶圆 (样品台旋转)
370 x 470mm 长方形基底 (XY样品台)
连续式设备可以度身订做, 没有尺寸限制 
片电阻测量适合金属薄膜、铜铟镓硒、非晶硅(硅)、碲化镉、钼、透明导电薄膜(AlZnO2)、掺杂之后的硅(硅)、硅锗及锗 
0.1 – 100,000 单位面积奥姆值 (更高可选) 

可整合于连续式(INLINE)的生产线内, 而收集的测量数据可自动送到SCADA系统
光学膜厚测量功能可选 
测量光斑<1mm
波长: 380-1050nm
可测量膜厚: 15-50nm, 多可达250nm
短时间重复性: ~0.1nm 
长时间重复性:: ~0.1nm 

连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备信息由铂悦仪器（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途