ForgeNano超快平面原子层沉积系统THEIA

THEIA 超快平面原子层沉积系统 THEIA 是一款拥有高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型原子层沉积系统，同时也具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造，以满足科学研究的各种需求，并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。

产品规格

1. 专利技术 SMFD-ALDTM 超快沉积：每分钟可达12-30nm

2. 低维护周期：平均每50μm沉积后维护一次

3. 专利阀门：可实现小于1ms的开关控制，寿命可达1亿次循环，在220℃下长期稳定工作

4. 薄膜不均匀度小于1%

5. 可容纳3片75-300mm基片，尺寸为300×300×10mm的腔室产品特点

THEIA 解决了长期困扰ALD工艺的效率与维护问题。虽然ALD拥有较好的膜厚控制与均一性，但由于效率不高，市场容量仍然低于CVD。ForgeNano拥有SMFD-ALDTM超快沉积技术，可实现每分钟12-30nm的沉积效率，将ALD沉积效率提升到新的高度。同时实现前驱体高利用率以及低维护成本，与CVD相比，THEIA的集成减排设计可以实现污染物“零排放”，避免环境污染问题，节约成本，为ALD工艺提供了新的参考标准。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途