射频辉光放电光谱仪(GD) HORIBA GD Profiler 2堀场

解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的有力工具，能获取镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，有助于改进工艺条件。主要应用领域包括金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。
GD-Profiler2作为超快镀层分析的理想工具，适用于导体和非导体复合镀层的分析，操作简便、易于维护，是镀层材料研发、质控的理想选择。
· 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差和热敏感的样品。
· 采用多项专利技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。
· 分析速度快（2-10nm/s）
技术参数：
1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无失真。
2、脉冲工作模式适用于常规涂层/镀层和薄膜的分析，也可很好地分析热导性能差和热敏感涂层/镀层和薄膜。
3、Polyscan多道（同时）光谱仪可覆盖全谱，范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA原版离子刻蚀全息光栅确保最大光通量，拥有卓越光效率和灵敏度。
5、高动态检测器（HDD）可迅速检测ppm-100%的元素含量，动态范围为5×1010。
6、宽敞的样品室适合各类样品加载。
7、功能强大的Quantum软件可灵活输出各种格式的检测报告。
8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大提高仪器灵活性，实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。
9、适用于ISO14707和16962标准。
仪器原理：辉光放电腔室内填充低压氩气，当电压达到一定值时，形成辉光放电，产生正电荷离子和自由电子。正电荷离子通过电场轰击样品表面，产生阴极溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞激化发光。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途