PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200 Pro（PICOSUN™ALDR-200S Pro）
原子层沉积系统（ALDP-200）
名称：原子层沉积系统
产地：芬兰
Picosun简介Picosun是一家全球公司，
Picosun的总部位于芬兰的Espoo，
其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。
PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，
并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强
其客户包括zui大的电子制造商，
小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。
Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。
PICOSUN®研发工具具有独特的内置可扩展性，
可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，
而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，
从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN™P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、
真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了zui大的产出效率，
并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性，
甚至能完全满足具有zui严格要求的半导体行业标准。
PICOSUN™P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，
系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、
工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。
根据用户的需求，确保每时每（24/7/365）
快速提供全面的解决方案。在购买之前，
我们提供做样服务，确保系统具有zui好的性能，
完全满足您的需求。
技术指标
衬底尺寸和类型50–200mm/单片
156mmx156mm太阳能硅片
150mmx150mm显示面板
工艺温度50-500°C,可选更高温度
基片传送选件气动升降（手动装载）
半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现
标准SEMIS2认证（认证中）
前驱体液态,固态,气态,臭氧源,等离子体（zui多4路气体）：
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
6根独立源管线，zui多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
重量790kg
尺寸(WxHxD)160cmx80cmx240cm
可选件集群工具,PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准
标准设备验收标准为Al2O3工艺，其他工艺可具体协商：
其他工艺、应用具体验收标准如：
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能
应用领域PICOSUN™200mm生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、
高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™P系列ProALD设备。
该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。
为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑，高效的设计。
集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和zui短的停机时间。
PICOSUN™P系列Pro工具保证了zui大产能以及zui节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
咨询：18263262536（微信同号）
Picosun原子层沉积(ALD)信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于Picosun原子层沉积(ALD)报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
