(一). 多功能电子束光刻设备PioneerTwo:
PioneerTwo采用30kVGemini电子束技术，是一款性价比高的成套电子束光刻设备，可用于纳米级光刻、高分辨成像和低压电子束光刻，适用于2英寸以下晶圆。在HSQ胶上曝光可制作亚8nm线条。
(二). 多功能电子束光刻设备eLinePlus:
eLinePlus是一款集成了纳米操纵设备和各种多功能选件的电子束光刻设备，在学校和各科研机构广泛应用。采用30kVGemini电子束技术，适用于4英寸以下基板的纳米级光刻、纳米工程、纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪等。在HSQ胶上制作亚5nm线条。
(三). 专业型电子束光刻设备Raith150Two:
Raith150Two是一款高分辨电子束光刻设备，采用30kVGemini电子束技术，适用于8英寸以下基板的纳米级光刻、高分辨成像和低压电子束光刻，可实现亚5nm的曝光结构。在HSQ胶上制作亚4.5nm线条及在PMMA胶上制作精细的11nm线条。
(四). 专业型电子束光刻设备Voyager:
Voyager采用50kVeWrite电子束技术，是一款性价比高的电子束光刻设备，适用于8英寸以下基板的高速直写。适合衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工。在HSQ胶上制作亚7nm线条。
(五). 专业型电子束光刻设备EBPG5150/5200:
EBPG5150/5200采用100kVEBPG电子束技术，是一款高自动化的电子束光刻设备，适用于8英寸以下基板（5150可曝光面积6英寸、5200可曝光面积8英寸）的高深宽比纳米结构曝光和高速电子束直写。适合防伪标识的加工及化合物半导体器件的高速加工。有关制作GaAsT型器件以及在化合物半导体上的应用，请咨询：18263262536（微信同号）。
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