PICOSUN原子层沉积设备ALD可用于打印头，传感器和麦克风

PICOSUN®R-200标准

PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。

敏捷的设计实现了最高质量的ALD薄膜沉积以及系统的最终灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术，即使在最具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUN®R-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学物质前体源。与手套箱，粉末室和各种原位分析系统集成，无论您现在的研究领域是什么，或以后可能成为什么样的研究领域，都可以进行高效，灵活的研究，并获得良好的结果。

PICOSUN®R-200高级

PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。

群集工具，Picoflow™扩散增强剂，卷对卷室，RGA，UHV兼容性，N2发生器，气体洗涤器，定制设计，用于惰性装载的手套箱集成PICOSUN®R-200高级ALD系统是高级ALD研究工具的全球市场领导者，已有数百个客户安装。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。

敏捷的设计实现了最高质量的ALD薄膜沉积以及最终的系统灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术，即使在最具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。 PICOSUN®R-200 Advanced系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学品前体源。高效且获得专利的远程等离子选件可实现金属沉积，而没有短路或等离子损坏的风险。与手套箱，UHV系统，手动和自动装载机，集群工具，粉末仓，卷对卷仓以及各种原位分析系统集成在一起，无论您现在或将来的研究领域如何，都可以高效，灵活地进行研究，并获得良好的结果稍后。

（*）等离子发生器技术特点：

远程血浆源安装到装载室并与反应室连

出色性能的适用于不同化学性质的蓝宝石涂药器

商用微波等离子体发生器，具有300 – 3000 W可调功率，2.45 GHz频率

保护气体在中间空间中流动（无等离子体物质的反向扩散）

在相同的沉积过程中，等离子体和热ALD循环的可能性，而无需对系统进行硬件更改

PICOSUN®P-300B

PICOSUN®P-300B ALD系统是专为生产MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）以及各种3D物品（例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。

PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的最高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。

PICOSUN®P-300B ALD系统是专门为MEMS和3维零件生产中的批处理而设计的，例如机械零件，硬币，钟表零件和珠宝，镜片，光学元件和医疗设备，外科植入物和植入物的涂层设备（PicoMEDICAL™解决方案）。该系统速度快，可靠性高且易于维护。

PICOSUN®P-300BV

PICOSUN®P-300BV ALD系统是专门为生产LED，分立器件和MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）而设计的。

PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的最高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。

PICOSUN®P-300BV ALD系统代表了工业ALD的尖端。该系统设计用于半自动处理晶圆批次。该工具针对快速批量生产进行了优化，可以通过SECS / GEM选件集成到工厂自动化中。带有加热选件的真空加载系统能够对敏感基材进行清洁处理，并沉积诸如金属氮化物之类的材料。

PICOSUN®P-300S

PICOSUN®P-300S ALD系统是专门为生产IC组件（例如微处理器，存储器和硬盘驱动器）而设计的，并且还适用于MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）。

PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的最高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。

PICOSUN®P-300S ALD系统代表了工业ALD的尖端。该系统旨在与行业标准真空集群平台结合使用，对单个晶圆进行全自动处理。可以通过SECS / GEM选件将SEMI S2 / S8认证的P-300S ALD系统集成到工厂自动化中，它们可以满足半导体行业最严格的清洁度要求。

PICOSUN®P-300S是IC创新驱动行业的首选ALD系统。

PICOSUN®P-1000

PICOSUN®P-1000 ALD系统设计用于批量喷涂各种3D物品，例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。

PICOSUN®P-1000 ALD系统设计用于批量处理各种3维物品，例如机械零件，硬币，钟表零件和珠宝，镜片，光学器件和医疗设备，外科植入物和可植入设备（PicoMEDICAL™解决方案）在生产环境中。主要应用包括各种钝化层和阻挡层，以显着提高涂层产品的性能和使用寿命。 PICOSUN®P-1000 ALD系统提供创新且灵活的设计，可通过经过生产验证的工艺，以优异的均匀性，最高的产量，最小的系统停机时间和较低的拥有成本，实现最高质量的ALD沉积。

PICOSUN®P-1000 ALD系统可靠，快速且易于维护，代表了工业ALD的前沿。

PICOSUN®Morpher

PICOSUN®Morpher ALD产品平台旨在颠覆Beyond和超越摩尔技术中的200毫米晶圆产业。它以领先的过程质量，可靠性和操作敏捷性，实现了MEMS，传感器，LED，激光器，功率电子器件，光学器件和5G组件的快速，全自动，高通量生产。从公司研发到生产和铸造制造的所有业务领域，Morpher都能适应您行业不断变化的需求和客户的需求。基质材料，基质和批量大小方面的领先多功能性以及广泛的工艺范围，使Morpher真正成为可转变的，包罗万象的制造设施，使您始终引领行业。

PICOSUN®Morpher设计用于结合行业标准的单晶圆真空集群平台来全自动处理晶圆批次。革命性的获得专利的晶圆批量翻转机制使该系统能够与半导体生产线集成，在该生产线中，大多数处理都是在水平几何结构中进行的，并且SEMI S2 / S8认证可确保该系统与业界最严格的标准兼容。

PICOSUN®Morpher ALD系统可通过SECS / GEM协议集成到工厂自动化中，而最先进的软件可通过直观，精简的图形用户界面为系统提供简单，安全和无故障的操作。凭借我们获得专利的双室，热壁反应器设计以及完全分离的前驱体导管和入口，我们可以创造出最高质量的ALD膜，具有优异的产率，低颗粒水平以及出色的电学和光学性能。紧凑的，符合人体工程学的设计以及便捷的维护，确保了系统停机时间最少，市场拥有成本最低。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途