日立高新技术公司
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HPLC立足今天,面向未来尖端技术    一贯坚持“将最先进的技术应用于最前线”信念的日立公司,立足于分析仪器的广泛应用......
新品详情 上市时间:2012年7月 创新点:泵模块采用倍速控制方式抑制液体脉冲,实时监测压力波动,在zei佳时间设定柱塞的倍速区间,有效抑制液体脉冲。 自动进......
新品详情 上市时间:2012年11月 创新点:高画质的钨灯丝扫描电镜, 图象质量更进一步。 通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性, 凝聚日立zei先进科技......
图标按操作流程顺序排列,操作简便通过对应谱图可简单确认元素重叠状况通过TruMap功能分离出谱峰重叠元素并准确显示(AZtecOne)* : 和TM4000Pl......
操作简单且直观* :和TM4000Plus搭配应用实例* :探测器内置型(制造商: 德国Bruker nano GmbH)特点通过简单操作即可迅速获取彩色X射线......
高性能与高灵活性兼备“Ethos”采用日立高新的核心技术--全球领先的高亮度冷场发射电子枪及新研发的电磁复合透镜,不但可以在低加速电压下实现高分辨观察,还可以在......
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量,并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处......
 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀......
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式离子研磨仪器。借此,可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等,......
优异的高效分析性能微型采样方法(已在日本和美国取得专利)已在半导体器件分析领域成为一款工具,它正迅速向更小制样方向发展。仅用一小时左右即可获得一个微小样品,以便......
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