日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量，并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀......
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式离子研磨仪器。借此，可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等，......
优异的高效分析性能微型采样方法(已在日本和美国取得专利)已在半导体器件分析领域成为一款工具，它正迅速向更小制样方向发展。仅用一小时左右即可获得一个微小样品，以便......
追求理想的三维结构分析通过自动重复使用FIB制备截面和进行SEM观察，采集一系列连续截面图像，并重构特定微区的三维结构。采用最理想的镜筒布局，从先进材料、先进设......
追求最完美的TEM样品制备工具在尖端设备及高性能纳米材料的评价和分析领域，FIB-SEM已成为不可或缺的工具。近来，目标观察物更趋微细化；更薄，更低损伤样品的制......
专用扫描透射显微镜HD-2700，配备了与德国CEOS GmbH公司（总经理Max Haider先生）共同开发的球差校正仪，显著提高了扫描透射电子显微镜的性能，......
日立驰名的冷场发射电子源和300 kV加速电压技术共同打造了超高分辨率成像和高灵敏度分析功能。双棱镜全息技术，空间分辨电子能量损失谱以及高精度平行纳米电子束衍射......
原子分辨率300 kV透射电子显微镜在精细加工技术已进入到亚纳米级水平的半导体，先进材料的研发领域，原子分辨率电子显微镜正在成为日益重要的，不可或缺的工具。为了......
日立新一代全数字化120kV透射电子显微镜HT7800，属于日立瑠璃系列产品Ruli TEM，操作的一体化和自动化程度都有明显提高。HT7800系列产品有两个型......
"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后......
“TM4000”和“TM4000Plus”可简化从样品观察、图像确认到生成报告等一系列操作过程，大幅提高了工作效率。还标配了报告生成功能，观察结束后可十分轻松地......
日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提......
"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为......
日立高新扫描电子显微镜S-3700N适合用于研究大件，较重，较高的样品。 ▲最大样品直径达300mm。▲可观察范围直径达203mm。▲可对高达110m......
MirrorCLEM是一个可简便观察光学显微镜和扫描显微镜同一位置的CLEM*1用系统。*1: CLEM (Correlative light and elec......
日立发布的200kV球差校正透射电镜HF5000，具有高稳定冷场发射电子枪，自动球差校正器，可一键操作实现自动球差校正，HAADF-STEM分辨率可......
MI4050是具有以下特征的高性能聚焦离子束系统：新型电子光学系统，可达到世界最高水准的SIM像分辨率・大束流使加工速度得以提升・提高了低加速电压的分辨率，使得......
AFM5100N除了激光检测方式之外，全新的「自检测悬臂」，在保证高分辨表面形貌观察的同时，大大简化了AFM悬臂操作。特点1. 简便的悬臂安装通常的悬臂是非常渺......
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