Agilent 5975 MSD 操作手册CI 维护概述

发布时间： 2023-09-26 19:05 来源：泰灵佳科技（北京）有限公司

领域：	其他
资料类型：	操作维修手册

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述
离子源清洁
在 CI 模式下操作 MSD 的主要影响是需要更频繁地清洁离子源。在 CI 操作中，离
子源箱的污染速度比 EI 操作更快，因为 CI 需要的离子源压力更高。
氨气
使用氨气作为反应气时需要增加前级泵的维护次数。氨气可使前级泵油更快地分
解。因此，需要更加频繁地检查和更换标准前级真空泵中的油。
使用氨气后必须使用甲烷吹扫 MSD。
安装氨气时应确认储气罐处于竖直位置。这有助于防止液态氨流入流量控制模块。
警告执行任何维护步骤时如果用到有害溶剂请务必使用通风橱。务必在通风良好