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光刻胶

参考报价: 面议 型号: SU-8
品牌: 暂无 产地: 暂无
关注度: 74 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
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MICROCHEM SU-8 负性化学放大胶
高深宽比,亚微米分辨率,侧壁陡直
适合I-line,宽光谱,电子束,X射线曝光
热稳定性>300C
可用于基于酸性溶液的电铸工艺

SU-8 2000 系列
厚度范围,单层涂胶厚度为0.5 to > 200 μm
更多挥发性溶剂,与传统去边工艺兼容
降低了极性溶剂含量,减小表面张力
表面活性成分,改善涂覆效果
多用于 MEMS,微流以及光电子器件制作

SU-8 3000系列
SU-8 3000常用于永久性结构制作,较SU-8 2000具有更好的基底粘附力,更不易于在工艺过程中产生内应力积累。常用于光电器件,MEMS芯片制作,以及作为芯片绝缘、保护层使用。

光刻胶信息由香港电子器材有限公司为您提供,如您想了解更多关于光刻胶报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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