Q300T T Plus 三靶溅射镀膜仪

     Q300T T Plus–三靶溅射镀膜仪，适用于200mm直径的试样

       Q300T T Plus是一种大腔室涡轮泵溅射镀膜系统，非常适合溅射单个直径高达8〃/200mm的大直径试样或多个直径相似的较小试样。非常适合薄膜应用和SEM/FE-SEM应用。它配备了三个溅射头，以确保单个大样本或多个样本的均匀镀膜。

Q300T T Plus 是一款大腔室涡轮泵镀膜系统，非常适合溅射直径达 8“/200mm 的单个大直径试样或类似直径的多个较小试样。适用于薄膜应用和SEM/FE-SEM。它配有三个溅射头，以确保单个大型试样或多个试样的均匀沉积。

注意：请注意，不能从每个溅射头依次溅射三种不同的溅射金属 - 有关顺序镀膜，请参阅 Q300T D Plus。

主要特点

• 极限真空度可达 5 x ^10-5 mbar 或更低

• 新的触摸和滑动电容屏

• 用于升级和下载过程日志文件的 USB 端口

• 可以在一台机器上设置多用途配置文件

• 新软件根据最近的使用情况对每个用户的食谱进行分类

• 16GB内存可存储1000多种配方

• 新型多色LED可视状态指示灯

• 可互换的载物台选项

• 三个溅射头，用于不同材料的大面积沉积

Q300T T Plus的推荐应用：

• 晶圆检测

• 用于 SEM 的多样品制备

这些产品仅供研究使用。

带有内置内爆防护罩的可拆卸腔室

可拆卸的玻璃室和易于接近的底座和顶板使清洁过程变得容易。

如有必要，用户可以快速更换腔室，以避免敏感样品的交叉污染。

高腔室选项可提高溅射的均匀性并容纳更大的基材。

三靶溅射系统

Q300T T Plus配有三个独立的溅射头，以确保单个大型试样或多个试样的均匀沉积。为了经济地涂覆小试样，可以选择“单靶”模式。它们是制备大型试样以供 SEM、FEG-SEM 检查的理想包衣机。为确保均匀沉积，Q300 Plus 系列镀膜机配备了一个旋转试样台和三个独立的磁控管靶组件，通过使用低电压来提高工艺效率。

多级选项

Q300T T Plus 具有满足大多数要求的试样台。所有产品均采用易于更换的插入式设计（无螺钉），转速可在预设限制之间变化。

用于 200 mm/8“ 和 150 mm/6” 晶圆的平面旋转平台（标配）。

安全

Q300T T Plus 符合关键的行业 CE 标准

• 所有电子元件均由盖板保护

• 内爆防护装置可防止用户在腔室故障时受伤

• 真空联锁装置可切断沉积源的电源，以防止用户在腔室打开时暴露于高压

• 过热保护关闭电源

真空控制

高真空涡轮泵允许对各种氧化性和非氧化性金属进行溅射，适用于薄膜和电子显微镜应用。自动真空控制，可以预先编程以适应工艺和材料，因此无需人工干预或控制。

冷磁控溅射

溅射镀膜是一种广泛用于各种应用的技术;可以制造出电压高、真空度差且没有自动化的等离子体和溅射金属。然而，这不适用于电子显微镜应用，因为它会加热样品并在等离子体与样品相互作用时导致损坏。Q 系列使用针对涡轮分子泵压力进行优化的低温增强等离子体磁控管，并结合低电流和沉积控制，确保您的样品得到保护并均匀涂覆。

Q300T T Plus 采用易于更换的 57 mm 直径圆盘式靶材，设计用于溅射氧化金属和贵金属。Q300T T Plus 标配铬 （Cr） 溅射靶材。其他目标选项包括;Au、Au/Pd、Pt/Pd、Pd、Pt、Cu、Ir、W、ITO和Al等。

用于铝溅射的脉冲清洗

铝 （Al） 会迅速形成难以去除的氧化层。Q300T T Plus采用特殊的铝配方，可减少氧化物去除时间，并防止靶材过度预溅射。

薄膜厚度监测仪

Q300T T Plus可以配备可选的薄膜厚度监测器（FTM），用于测量腔室内石英晶体监测器上的涂层厚度，以控制沉积在样品上的材料的涂层厚度。