【技术特点】-- 芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列

芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列以其适中的反应温度，甚至在zei小的纳米孔洞结构及高深宽比材料中也具有极佳的薄膜均匀性、保形性，是开发MEMS和传感器的理想工艺。

PICOSUN公司提供具有技术领先、高产能和具有成本效益的批处理ALD系统，可为MEMS制造商定制自动化、复杂衬底处理方案。PICOSUN提供200毫米（甚至更小）尺寸晶圆解决方案，特别适用于传感器、打印头、麦克风，光电MEMS和射频MEMS产业。

芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列可沉积如Al2O3、ZnO、TiO2、SiO2、ZrO2 和HfO2、Ta2O5，氮化物（TiN、AlN）以及金属。

微机电系统中的ALD功能层:

? 扩散阻挡层                           ? 导热层

? 粘附层                                  ? 防粘层

? 电荷耗散层                           ? 光学层

? 导电种子层                           ? 生物膜

? 蚀刻掩膜、蚀刻阻挡层          ? 密封

? 电绝缘层                               ? 抗摩擦层

? 纳米孔洞闭合

【技术特点对用户带来的好处】-- 芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列

【典型应用举例】-- 芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列