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1200℃单/双温区CVD系统

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中环电炉马弗炉/电阻炉/实验炉, CCVD管式炉由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,CVD管式炉除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在CVD管式炉正在使用在许多行业,包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域

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CVD管式炉是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应,从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统

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