JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。
产品特点:
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。
此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。
利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司独特的DF/DS系统能对电子束偏转产生的畸变进行校正,具有球差和象散自动补偿功能,可在场边角、场边界处进行高精度地描画。
该系统采用了19位DAC和样品台控制精度为0.6nm的激光干渉仪,实现了业界zei高水准的位置精度、拼接、套刻精度(±9nm)。 可用于位置精度要求很高的光子器件、通信设备等领域的研究和开发。
本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能),实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间(任意的)、场和图形进行分别设定,非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。
zei大扫描速度高达50MHz,再加上zei大程度地抑制了机器的准备操作时间,因此缩短了描画时间,到描画开始为止的作业非常简单,聚焦也能够自动进行,因而能提高总产出量。
使用自动装载系统(选配),zei多可以连续描画10个样品架。(例:可连续描画10张6英寸的晶圆片或者40张2英寸的晶圆片等。※连续描画时,需要和材料数相应的样品架。)目前在日本国内外已有这样的生产线。
利用微间距控制程序(场尺寸精调程序),可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。
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