【技术特点】-- NIE-3500 (M) IBE离子束刻蚀

• 低成本

• 离子束：高达2KV/10mA

• 离子电流密度100-360uA/cm2

• 离子束直径：4“,5“,6“

• 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 极限真空5x10-7Torr

• 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

• 14“不锈钢或铝质腔体

• 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

• 自动上下载片（NIE-3500）

• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

• 占地面积30“x30“

【技术特点对用户带来的好处】-- NIE-3500 (M) IBE离子束刻蚀

【典型应用举例】-- NIE-3500 (M) IBE离子束刻蚀