技术参数

1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm

2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统

3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10^-4Pa

4、系统漏率：≤1×10^-7Pa

5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度

                      400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸

　　　　　  发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启

6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm

7、加热温度：RT-180℃，测温、控温

8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A