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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

tel: 400-6699-117 7739

沈阳科晶其他包装业专用, VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、......

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技术参数

1、电源电压:220V  50Hz

2、极限功率:<2KW(不含真空泵)

3、极限真空度:9.0×10-4Pa

4、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:2个(可选配其他数量)

6、靶枪冷却方式:水冷

7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W;射频溅射功率:300W。(靶电源种类可选,可选择两个直流电源,也可选择两个射频电源,或选则一个直流一个射频电源)

9、载样台:?140mm

10、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

11、保护气体:Ar、N2等惰性气体

12、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。




厂家资料

地址:沈阳市浑南新区学风路26-2-7号5门 精密仪器工业园

电话:400-6699-117 转 7739

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