NBM microPLD 脉冲激光沉积系统

技术参数：
1. 靶：数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制。

2. 基板：采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr。

3. 基板加热电源。
4. 超高真空成膜室腔体：不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-7 pa。
5. 样品传输室：不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa。
6. 排气系统：分子泵和干式机械泵，进口知名品牌。
7. 阀门：采用超高真空挡板阀。
8. 真空检测：真空计采用进口产品
9. 气路两套：采用气体流量计（MFC）。
10. 薄膜成长监控系统：采用扫描型Rheed（可差分抽气）。
11. 监控软件系统：基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换。
12. 各种电流导入及测温端子。
13. 其它各种构造：各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等。

感谢河南师范大学国家重点实验室, 清华大学先进材料重点实验室，北京大学微电子系 华中科技大学材料学院 使用此研究级高性能的PLD系统， 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助！！