【技术特点】-- NBM microPLD 脉冲激光沉积系统

设备简介：

产地：美国NBM

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

我司PLD特点：
我们PLD系统拥有最好的性能价比,具有以下优异的性能:

• 主真空室腔体直径18英寸，本底真空可达高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。

• 主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵

• ★基片加热温度最高可达1200℃。

• 基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。

• ★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。

• 6个装靶的坩埚（或靶盘），各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。

• ★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.

• ★Load Lock System一套（装样-送样系统一套），采用transferengineering公司（Transfer Engineering and Manufacturing, Inc）的，本底真空1×10^-5Pa，带相应的分子泵。同一Load Lock系统既可以传递靶又可以传递基片，可两者间切换操作。

• 设备及光学台可联接在一起，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。

具体配置:
 一， 超高真空腔体
 二， 分子泵
 三， 激光扫描系统
 四， 衬底加热铂金片，最高可达1200度
 五， 基板加热构造设计
 六， 基板加热电源
 七， Rheed
 八， Rheed软件
 九， 多靶位 ，标准配置6个1英寸靶
 十， Load-Lock样品传输腔体

【技术特点对用户带来的好处】-- NBM microPLD 脉冲激光沉积系统

【典型应用举例】-- NBM microPLD 脉冲激光沉积系统