【技术特点】-- EMS150 R离子溅射镀膜仪

   EMS150R 离子溅射镀膜仪       

新一代EMS 150R镀膜仪(真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用最新技术研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！

   EMS 150R离子溅射镀膜仪提供3个版本的仪器：

l  EMS150R S-喷金仪/离子溅射仪（适用于真空喷镀非氧化型金属，如金，铂，钯等）

l  EMS150R E-喷碳仪/碳蒸镀仪（适用于真空喷镀碳膜，特别适用于SEM，用碳丝或碳绳）

l  EMS150R ES-真空镀膜仪（离子溅射仪和碳蒸镀仪的结合体）

    EMS 150R离子溅射镀膜仪采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。自动放气控制功能确保了溅射期间最佳的真空状态，可提供良好的一致性和可重复性。

智能识别系统可自动探测安装了何种类型的镀膜插入头，立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案，这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非常理想。多种样品台组件适用于各种尺寸和类型的样品；所有样品台都具有快速、易更换及落入式设计的特点。

可预编程的镀膜参数及方案确保结果一致，具有可重复性。设计先进的碳蒸镀插入头操作简单,具有对蒸发电流参数的完全控制，确保了SEM应用中一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。

溅射、碳蒸镀、辉光放电插入头及多种可选件，使EMS150R对于多用户实验室应用非常理想。可溅射一系列非氧化性金属，如金、银、铂和钯等等。碳丝蒸镀插入头处理样品速度非常快。也可选用碳棒蒸发。还可应用于金属薄膜研究及电极的应用。

EMS 150R离子溅射镀膜仪溅射靶材或碳蒸发源的选用：

l  金：常规SEM应用时使用最普遍的靶材；溅射速度快且导电效果最好。

l  银 ：高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。

l  铂 ：在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸最小，且具有优良的二次电子发射能力。

l  钯：用于x射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。

l  金/钯合金（80:20%）：通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高最终分辨率。

l  碳丝蒸镀：碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非常快。

l  碳棒蒸发：用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。

【技术特点对用户带来的好处】-- EMS150 R离子溅射镀膜仪

【典型应用举例】-- EMS150 R离子溅射镀膜仪