新型真空镀膜工艺与装备实验室
400-6699-117转1000
实验室主要成果展示：
1、真空放电装备开发：
A、高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）研究
HiPIMS-PIID技术的提出
HiPIMS-PIID技术制备CrN涂层界面
新型金属等离子体源的研制
自主设计复合真空处理平台设计与制造
2、特种真空镀膜技术与应用：
抗菌涂层
3、锂电池材料界面处理与全固态电池：
去极化“全活性电极”设计与制备
去极化电极充放电性能
电化学原位界面调控法——提前放电
提前放电与否电化学性能（a）未放电样品；（b）提前放电样品；（c）循环性能对比；（d）倍率性能对比
4、基于纳米结构的薄膜太阳能电池研究：
插入式背电极复合结构
