微影操控术
微影操控术(Nanolithography and Nanomanipulation)
Lithography(微影) 及 manipulation(操控术)是目前相当热门的研究题目。多年以
来 Lithography 应用力量及电流方式，已可在材料表面刻出或长出不同尺寸纳 米图案。目前研究上是针对(1)如何划出 100nm 级图案，10nm 级线宽 (2)图案稳定性及操控性等工程议题。此两议题在设备上，目前可以使用封闭式回路控制扫瞄器(Close loopscanner)解决。Lithography 的要求均必需达到及时性 ， 表示 AFM 扫瞄时，欲将某物从a移动至 b 时，可在移动后马上扫瞄，期间探针无需重新下探针动作，及时性就非常重要。目前挑战的题目如纳米级定位修补，表面重组，生化上强制接种加速实验。1990年，IBM 公司的科学家展示了一项令世人瞠目结舌的成果，他们在金属镍表面用 35 个惰性气体氙原子成“IBM”三个英文字母如图 1-10。科学家在试验中发现 STM 的探针不仅能得到原子图象，而且可以将原子在一个位置吸住，再搬运到另一个地方放下。这可真是个了不起的发现，因为这意味着人类从此可以对原子进行操纵。
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