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膜厚仪的特点及技术参数

2020.5.11

膜厚仪又叫膜厚计、膜厚测试仪，分为磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。采用磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。

可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,陶瓷和塑料等上的粗糙膜层. 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

膜厚仪的特点

1,可以测量多层膜中每一层的厚度

2,三维的厚度型貌

3,远程控制和在线测量

4,可做150mm or 300mm 的大范围的扫描测试

5,丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中.用户也可以在材料库中输入没有的材料.

6,软件操作简单,测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.

7,软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计.

8,软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示.软件其他的升级功能还包括在线分析软件,远程控制模块等

膜厚仪的技术参数

厚度测量:10纳米-250微米; 可以选择250nm-1100nm间任一波长,也可在该范围内选择多波长分析;

波长: 250-1100nm