磁致溅射仪的结构系统简介
真空系统：真空系统由机械泵、分子泵和各种阀门组成。低真空下，由热偶型规管来测定真空度高真空下由电离型规管来测量。系统的最高真空度可以达到数量级。
输气系统：溅射中需要通入高纯氢气作为溅射气体。有时需要通入、等进行反应溅射。系统现有两路质量流量计，所用的气体可以选择合适的流量进入真空室。
加热系统：在样品托上配有加热电阻丝，衬底温度在室温范围内可调。衬底的温度可通过热电偶测量及其相连电路进行控制。
溅射系统：磁控溅射仪的真空室中有三个磁控阴极靶，被水冷套冷却。真空室上部放置有直径为的圆形样品托。阴极靶与样品托之间的距离在内连续可调。
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