磁致溅射仪核生长型薄膜的形成
这种类型形成过程的特点是，到达基片上的原子首先凝聚成核，后续飞来的原子不断集聚在核的附近使核在三维方向不断成长，最终形成薄膜。大部分薄膜的形成过程都属于这种类型。核生长型的薄膜其生长过程可以分为如下四个阶段。
(l)成核阶段碰撞到基片上的原子，其中一部分与基片原子交换的能量很少，仍具有相当大的能量，所以能返回气相。而另一部分则被吸附在基片的表面上，这种吸附主要是物理吸附，原子将在基片表面停留一定的时间。由于原子本身还具有一定的能量，同时还可以从基片得到热能，因此原子有可能在表面进行迁移或者扩散。在这一过程中，原子有可能再蒸发，也可能与基片发生化学作用而形成化学吸附，还可能遇到其它的蒸发原子而形成原子对或者原子团，发生后两种情况时，原子再蒸发与迁移的可能性极小，从而逐渐形成稳定的凝聚核。
(2)小岛阶段当凝聚晶核达到一定的浓度以后。继续蒸发就不再形成新的晶核。新蒸发来的吸附原子通过表面迁移将集聚在己有的晶核上，使晶核生长并形成小岛，这些小岛通常是三维结构，并多数己具有该种物质的晶体结构，即己形成微晶粒。
(3)网络阶段随着小岛的生长，相邻的小岛会互相接触并彼此结合，结合的过程有点类似两个小液滴结合成一个大液滴的情况。这是由于小岛在结合时会释放出一定的能量，这些能量足以使相互接触的微晶状小岛瞬时熔化，在结合以后，由于温度下降新生成的岛将重新结晶。电子衍射结果发现，在尺寸和结晶取向不同的两个岛相结合时，得到的微晶的结晶取向与原来较大的小岛的相同。随着小岛的不断结合，将形成一些具有沟道的网络状薄膜。
(4)连续薄膜继续蒸发时，吸附原子将填充这些空沟道，此时也有可能在空沟道中生成新的小岛，由小岛的生长来填充空沟道，最后形成连续薄膜。
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