磁控溅射技术应用的现状
磁控溅射技术不仅是科学研究和精密电子制造中常用的薄膜制备工艺技术，经过多年的不断完善和发展，该技术也已经成为重要的工业化大面积真空镀膜技术之一，广泛应用于玻璃、汽车、医疗卫生、电子工业等工业和民生领域。例如，采用磁控溅射工艺生产镀膜玻璃，其膜层可以由多层金属或金属氧化物祖成，允许任意调节能量通过率、反射率，具有良好的美观效果，被越来越多的被应用于现代建筑领域。再比如，磁控溅射技术也能够应用于织物涂层[3]，这些织物涂层可以应用于安全领域，如防电击、电磁屏蔽和机器人防护面料等，也可用于染料制作。这样的涂层织物在医疗卫生、环境保护、电子工业等领域都有重要的应用。
这里简单介绍某实际使用的磁控溅射系统，照片如图7。其为一射频磁控溅射系统，且为多靶溅射系统，设备由磁控溅射台，制冷装置，涡轮分子泵及气体流量控制仪组成。在溅射真空室中使用二号靶位的射频电源对靶材进行磁控溅射。靶材的上方为基片行走单元，能够实现在不同靶位来回循环运动。可以控制行走单元的转速、时间、靶位来得到更加均匀的薄膜。气体流量控制仪器能够实现对氩气等溅射气体及真空腔内压强的测量。同时这一套系统自带了基底加热装置，能够支持最高到 400 摄氏度的基底升温，通过加热电源、温度计、电炉丝及温度控制装置实现对基底的准备升温和温度保持。涡轮分子泵系统主要功能是对真空腔内抽取空气，尽可能的达到腔内真空环境，一般先打开机械泵及予阀先对真空腔内进行抽真空工作后，再打开低阀、分子泵及高阀实现对真空腔的抽真空过程。制冷装置主要使用的水冷的方式，能够对靶材、溅射源以及分子泵进行冷却，使设备不至于在高温下损坏，良好的保持了溅射靶材及溅射源的温度。
推荐
