电子束光刻的基本结构
电子束曝光的基本结构，从上往下依次为：电子枪、电子枪准直系统、电磁透镜、消像散器、偏转器、物镜、光阑（Aperture）、电子探测器、工作台（stage）以及真空泵（离子泵、分子泵、机械泵）。
电子枪：高分辨率的热场发射，配有高压，电子束的能量通常在10~100KeV。
电子枪准直系统：对电子枪发出的电子束进行较直。
电磁透镜：与光学透镜类似，聚焦电子束。
消像散器：调节聚焦像散，减少误差。
光阑：改变电子束流。
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电子束曝光的基本结构，从上往下依次为：电子枪、电子枪准直系统、电磁透镜、消像散器、偏转器、物镜、光阑（Aperture）、电子探测器、工作台（stage）以及真空泵（离子泵、分子泵、机械泵）。
电子枪：高分辨率的热场发射，配有高压，电子束的能量通常在10~100KeV。
电子枪准直系统：对电子枪发出的电子束进行较直。
电磁透镜：与光学透镜类似，聚焦电子束。
消像散器：调节聚焦像散，减少误差。
光阑：改变电子束流。
