解析引发式化学气相沉积（iCVD）
引发式化学气相沉积（iCVD）方法是一种绿色新型的功能高分子薄膜制备方法。结合传统的液相自由基聚合反应与化学气相沉积技术，iCVD方法将聚合所需的引发剂和功能单体气化引入腔体，在较低加热温度下诱导引发剂裂解，使单体聚合成高分子薄膜沉积于基底上。沉积过程中基底温度控制在室温范围，因此不会伤害其性能。与传统液相制备过程相比，iCVD法制得薄膜致密均匀、厚度可控，且适用于任何材质的基底；与PECVD等高能气相法相比，其条件温和、过程可控，且可完美保留所需官能团。
引发式化学气相沉积的应用前景
由于引发式化学气相沉积结合了液相自由基聚合与化学气相沉积的特点，应用前景十分广阔。不同高分子材料具备的丰富官能团可以赋予多种功能特性。引发式化学气相沉积可通过选择带有特定官能团的单体，制备各种不同功能的高分子纳米薄膜。带低表面能官能团的薄膜，可使衣服、鞋子、户外装备具备防水防污功能，电子产品具备防水功能，玻璃、太阳能板等具备防雾、防覆冰功能；带亲水基团的薄膜，可使植入人体的器官、医疗设备具备抗生物吸附性能，提高生物相容性，还可使反渗透膜等水下工作设备减少生物污染、延长使用寿命；低摩擦系数的高分子薄膜，可使精密机械表面润滑、降低阻力；绝缘性能良好的高分子薄膜，可用于制备柔性电子设备的绝缘层、封装层等。
引发式化学气相沉积的研发现状
引发式化学气相沉积技术最早由美国麻省理工学院的Gleason教授团队开发，迄今经过了约10年的研究发展。除了Gleason实验室外，目前世界上从事该方面研究的主要还包括美国南加州大学的MalanchaGupta教授实验室，俄克拉荷马州立大学的Jessie Mao教授实验室，以及韩国先进技术研究院（KAIST）的Sung Gap Im教授实验室等少数科研团队。目前从事iCVD技术研究开发的还包括美国的GVD公司，主要提供干式润滑镀层等方面的服务。
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