光敏反应的分类及发生机制
光敏反应（Photosensitivity）包括光毒反应（Phototoxicity）和光变态反应（Photoallergy）两大类。
1、光毒反应
由于某些药物在吸收相应波长的能量后转变为激发态，在激发态转变为基态的过程中将能量释放给氧或者周围介质，生成单线态氧，超氧离子等高反应性物质，这些高反应性物质通过损伤DNA和细胞膜等途径进而导致炎症介质及细胞因子的产生和释放，最终导致光毒性反应的发生，临床大多表现为过度晒伤样反应。其中光毒性反应又可以分为依赖氧的光动力学反应和非氧依赖的非光动力学反应。 [1]
呋喃香豆素类、煤焦、四环素族和汞制等药物与紫外线照射同时应用，可增强机体对紫外线的敏感性，产生较强的皮肤反应，临床上用以提高紫外线治疗某些皮肤病的疗效。
2. 光变态反应
光变态反应属于Ⅳ型过敏反应，是获得性免疫介导反应，发生率比较低，与抗体和延迟的细胞反应有关。发生机制为药物吸收光能后变为激发态，并与蛋白结合成为药物-蛋白结合物，经朗格汉斯细胞传递给免疫细胞，通过释放各种细胞因子并激活肥大细胞，再次接触药物后引起变态反应，临床表现与Ⅳ型过敏反应类似。
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