手持光刻机如何使用
手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;
光刻(photolithography)工艺是将掩膜版(光刻版)上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面,再经过分步重复曝光和显影处理之后,在晶圆上形成需要的图形。
通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易。根据曝光方式不同,光刻可分为接触式、接近式和投影式;根据光刻面数的不同,有单面对准光刻和双面对准光刻;根据光刻胶类型不同,有薄胶光刻和厚胶光刻。而光刻机本身按照应用可以分为几类,用于制造芯片的光刻机,用于封装的光刻机和应用于LED制造领域的投影光刻机。
推荐
-
焦点事件