单面/双面掩模对准光刻机的相关知识
单面/双面掩模对准光刻机支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准方式。此外，该系统还提供其他功能，包括键合对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速处理和重新加工，以满足不断变化的用户需求，转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户，非常适合大学和研发应用。
EVG单面/双面掩模对准光刻机特征：
1、晶圆/基片尺寸从零碎片到200毫米/ 8英寸。
2、台式或独立式带防振花岗岩台面。
3、敏捷的处理和转换重新加工。
4、分步流程指引。
5、远程技术支持。
6、顶部和底部对准功能。
7、高精度对准。
8、自动楔形补偿序列。
9、电动的和程序控制的曝光间隙。
10、支持先进的UV-LED技术。
11、最小化系统占地面积和设施要求。
12、多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同语言）。
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