波长干扰波长色散X射线光谱分析仪的介绍
①X射线管
由X射线管发射出来的干扰线，首先，可能来自靶材本身，包括靶元素及有关杂质（例如钨靶中的铜）的发射线，其次，在x射线管的长期使用中，可能由于灯丝及其它有关构件（包括银焊料）的升华喷溅或其它原因，造成靶面或管窗的玷污，也是产生干扰线的一种来源。再次，由于x射线管构件受激发或阴极电子束的不适当聚焦，也可能产生原级或次级的发射线。在现代结构合理的x射线管中，主要干扰线可能来自前者，后两种原因一般不占显著地位。
②样品
样品中其它元素发射出来的干扰线，主要是强度较大的图表线，多数非图表线或禁戒线的强度都很低（除某些轻元素有较强的非图表线外），并且很少造成对分析线或参比线的干扰其中由于图表线造成的干扰，除稀土元素外，还有其它元素，突出的如Z=22（Ti）到26（Fe）等相邻元素，它们的Kα和Kβ线之间的重叠也是很严重的。此外，不同谱系和不同反射级谱线之间的重叠，以及这些元素的Lβ1I和KβII线之间的重叠，也是很典型的。
除样品本身产生的干扰线外，由于样品晶态的变化，将对原级标识光谱的散射强度带来显著的影响，这就是所谓样品的衍射效应。以半导体硅片为例，单一晶态的硅样品将对原级标识光谱产生劳厄衍射，而高度定向的多晶硅样品，将对各种波长原级入射线产生德拜-谢乐（Debye-Scherrer）衍射。如果这种多晶硅被制成粉状样品，或利用样品旋转器使它处在旋转的状态，则在记录纸上观察到的只是由靶材发射出来的少数散射线；如果样品取的是多晶硅片，而且不用旋转器，那么对于由钨靶发出的Lβ2线，当样品面每转动12°（手动）后静放时，就可以在不同方位上，观察到强度不同的或宽或窄的Lβ2峰。因此，对于多晶态样品，当它固定在一定方位时，从记录纸上可以看到许多尖峰的出现。这些尖峰，就是由具有不同晶面间距d的晶面与人射线形成不同的衍射角，从而产生符合布拉格条件的衍射得来的。显而易见，这些尖峰的存在及其随样品方位的变化，将干扰分析线或参比线的强度测量。
③光路
由光路和晶体衍射过程可能带来的谱线干扰，通常并不严重，但其来源则比较复杂。诸如，标本座及有关构件发射的次级光谱，样品底座（如聚酯薄膜、离子交换树脂和滤纸等）中痕量杂质的次级光谱，由准直器金属片发出的次级光谱，以及由晶体分析器产生的附加发射和异常发射等。
